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Adv. Mater.:清華李楊課題組基于濕法刻蝕實現(xiàn)Q值近千萬的鈮酸鋰微環(huán)腔的高效制備

來源:清華大學(xué)新聞網(wǎng)      2022-11-09
導(dǎo)讀:?目前,在TFLNOI平臺上實現(xiàn)大規(guī)模、高質(zhì)量器件加工的主流方法是電感耦合等離子-反應(yīng)離子刻蝕(ICP-RIE)。盡管ICP-RIE能實現(xiàn)本征品質(zhì)因子高于一千萬的微環(huán),但其存在吞吐量有限、工藝參數(shù)不穩(wěn)定等不足。針對以上挑戰(zhàn),清華大學(xué)精密儀器系李楊副教授團隊對TFLNOI的濕法刻蝕工藝進行了研究。相關(guān)成果以“基于濕法刻蝕加工的高Q值薄膜鈮酸鋰微環(huán)”(High-Q thin film lithium niobate microrings fabricated with wet etching)為題發(fā)表在了《先進材料》(Advanced Materials)上,并被選為“編輯推薦”(Editor’s Choice)。
 鈮酸鋰是一種電光系數(shù)和二階非線性系數(shù)很高的鐵電晶體,是現(xiàn)代電光器件的核心材料。絕緣體上鈮酸鋰薄膜(TFLNOI)使很多基于體材料鈮酸鋰的器件能被集成到芯片上,從而極大地縮小了器件的尺寸,并提升了器件的性能。其中微環(huán)腔是片上鈮酸鋰電光、非線性器件的核心結(jié)構(gòu),品質(zhì)因子更高的微環(huán)腔容許信號光在其中繞行更多圈,從而實現(xiàn)更強的光場和更有效的電光或非線性光學(xué)變換(圖1)。結(jié)合鈮酸鋰的優(yōu)良光電特性和TFLNOI微環(huán)/波導(dǎo)的高品質(zhì)因子,可以實現(xiàn)高性能的電光調(diào)制器、光量子信息器件 、非線性波長轉(zhuǎn)換器、光頻梳等器件。

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圖1. 環(huán)形諧振腔示意圖(圖片來源:北京大學(xué)肖云峰研究員課題組)
目前,在TFLNOI平臺上實現(xiàn)大規(guī)模、高質(zhì)量器件加工的主流方法是電感耦合等離子-反應(yīng)離子刻蝕(ICP-RIE)。盡管ICP-RIE能實現(xiàn)本征品質(zhì)因子高于一千萬的微環(huán),但其存在吞吐量有限、工藝參數(shù)不穩(wěn)定等不足。此外,目前鋰元素被認為是CMOS工藝中的污染元素,用于進行TFLNOI微納加工的ICP-RIE設(shè)備需要“專材專用”,無法實現(xiàn)與現(xiàn)行CMOS工藝的設(shè)備兼容,提高了加工成本。
針對以上挑戰(zhàn),清華大學(xué)精密儀器系李楊副教授團隊對TFLNOI的濕法刻蝕工藝進行了研究(圖2)?;谟砂彼碗p氧水所組成的溶液,該團隊分別在x切和z切TFLNOI上加工了波導(dǎo)和微環(huán),并面向該溶液對x切和z切TFLNOI刻蝕的各向異性展開了系統(tǒng)的研究(圖3)。該濕法刻蝕工藝不僅可以實現(xiàn)與ICP-RIE相媲美的加工質(zhì)量,還具備工藝、器件性能上的獨特優(yōu)勢。相關(guān)成果以“基于濕法刻蝕加工的高Q值薄膜鈮酸鋰微環(huán)”(High-Q thin film lithium niobate microrings fabricated with wet etching)為題發(fā)表在了《先進材料(Advanced Materials)上,并被選為“編輯推薦(Editor’s Choice)。

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圖2.TFLNOI濕法刻蝕工藝流程。PECVD:等離子體增強化學(xué)氣相沉積;BOE:緩沖氧化物刻蝕液

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圖3. 濕法刻蝕后TFLNOI脊波導(dǎo)截面(未去除掩模)電鏡圖。(a)和(b)為x切TFLNOI上沿y和z軸方向的脊波導(dǎo)截面電鏡圖。(c)和(d)為z切TFLNOI上沿y和x軸方向的脊波導(dǎo)截面電鏡圖。
該成果具有一系列優(yōu)勢。首先,由于該濕法刻蝕所需的刻蝕劑——雙氧水和氨水——非常容易得到,工藝所需條件非常容易保證,因此,該濕法刻蝕具有工藝簡單、成本低且極易復(fù)現(xiàn)的優(yōu)勢。另外,由于濕法刻蝕可以同時處理多個晶圓,且對晶圓的大小幾乎沒有限制,本方法極大地提高了工藝的吞吐量。這些優(yōu)勢對TFLNOI器件的產(chǎn)業(yè)化具有重要意義。
其次,濕法刻蝕可實現(xiàn)高品質(zhì)因子微環(huán),并可實現(xiàn)任意的波導(dǎo)-微環(huán)的耦合狀態(tài)。研究團隊在z切TFLNOI上實現(xiàn)了本征品質(zhì)因子高達9.27×106的微環(huán)(圖4),該品質(zhì)因子已達到國際一流水平。盡管濕法刻蝕具有橫向刻蝕效應(yīng),但通過對耦合波導(dǎo)、微環(huán)、波導(dǎo)-微環(huán)的間距、刻蝕深度進行設(shè)計,可實現(xiàn)包括欠耦合、臨界耦合和過耦合在內(nèi)的任意波導(dǎo)-微環(huán)的耦合狀態(tài)。

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圖4.z切TFLNOI上微環(huán)的TE0模式的(a)歸一化透射譜和(b)1535-1545 nm之間的品質(zhì)因子分布。QL:有載品質(zhì)因子;Qint本征品質(zhì)因子
另外,濕法刻蝕具有高刻蝕選擇比,并可加工窄狹縫。由于該濕法刻蝕溶液幾乎不會刻蝕二氧化硅,因此,利用二氧化硅掩模,該濕法刻蝕具有極高的刻蝕選擇比。目前,商用TFLNOI的鈮酸鋰薄膜的厚度一般小于1微米。針對該厚度范圍內(nèi)的鈮酸鋰薄膜,該濕法刻蝕僅用100nm的二氧化硅作為掩模,即可實現(xiàn)任意厚度的刻蝕。由于所需的掩模層很薄,本方法對窄狹縫的加工也具有優(yōu)勢。
本論文的完成單位為清華大學(xué)精密儀器系、精密測試技術(shù)與儀器國家重點實驗室,第一作者為精儀系2022級博士生莊榮津,通訊作者為李楊副教授。精儀系2020級博士生何金澤、2019級博士生祁一凡為本論文工作作出了重要貢獻。本研究得到了國家重點研發(fā)計劃、國家自然科學(xué)基金、北京市自然科學(xué)基金和珠海市產(chǎn)學(xué)研項目的資助。該論文的成果已申請PCT國際發(fā)明專利。
論文鏈接:https://doi.org/10.1002/adma.202208113
參考資料:https://www.tsinghua.edu.cn/info/1175/99683.htm

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